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5月13日，韩国媒体《财经新闻》发表文章称，美国政府将把美国产设备出口和运入三星电子和SK海力士在中国工厂的期限再延长一年的消息传出后，韩国半导体业界纷纷表示：“避免了最糟糕的局面。”随着设备进入中国的限制期限10月临近，两家公司曾因是否延期而陷入不确定性之中。
不过，虽然追加延长期限，但由于维持极紫外线（EUV）曝光设备等最尖端设备的引进限制，三星电子和SK海力士只能通过以维护和维修通用（传统）半导体生产设施为主的设备引进，将重点放在“维持现状”上，两家公司的中国业务仍将走在荆棘路上。
近日，据外媒和半导体业界透露，美国政府正在积极考虑将三星电子和SK海力士向中国工厂出口和进口美国设备的期限再延长一年的方案。
此前，美国商务部曾于去年10月公布了对中国出口18纳米以下DRAM、128层以上NAND 闪存、14纳米以下半导体相关设备的管制方案。美国商务部虽然对三星电子和SK海力士的中国工厂下达了限时缓期措施，但缓期时间仅为1年。
两家公司就投资数十万亿韩元的中国国内工厂的投资和工程改善问题，甚至考虑了退出中国等最坏的情况，但有评价认为，此次延期后，这一风险得到了部分缓解。
目前，三星电子在投资约33万亿韩元（约1726亿元人民币）的西安一、二工厂生产128层NAND。这里承担着三星电子全部NAND生产量的40%左右。SK海力士在中国无锡和大连分别投资了25万亿韩元（约1308亿元人民币）左右的工厂，生产10纳米至20纳米出头的DRAM、96层和144层NAND闪存。无锡工厂生产的DRAM占SK海力士总DRAM产量的48%左右。
三星电子和SK海力士相关人士谨慎地表示：“对于两国政府的事情，作为企业没有特别的立场。”
据专家预测，由于期限的延长，三星电子和SK海力士将维持现状，如维护和维修现有设施。
因为在最尖端微细工程中使用的EUV曝光设备与此次设备引进延期措施无关，不能引进。
韩国产业研究院副研究委员庆熙权表示：“通过此次措施，今后引进的设备将用于三星电子和SK海力士中国工厂现有设备的维护和维修。中国国内业务将以美国政府希望的方向——传统半导体为主，最终有可能淡出中国市场。”虽然期限延长了，但三星电子和SK海力士的苦恼依旧存在。
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